高純鉭靶用超高純鉭粉
文章來源：中國有色礦業集團有限(xian)公司 發布時間：2025-03-01
【成果簡介】
鉭是重要的稀有難熔金屬材料，具有良好的耐熱、耐蝕、耐氧化性，有優越的抗原子遷移能力，是集成電路線寬45nm以下半導體芯片阻擋層優選的濺射靶材料。東方鉭業生產的高純鉭靶用高純鉭粉純度達到了99.998%（4N8），其中難熔金屬W、Mo、Nb含量總和小于0.4ppm，達到了國內領先、國際先進水平，完全可以滿足6N高純鉭靶用高純鉭粉的指標要求，為國內開發12英寸濺射鉭靶材提供關鍵材料支持。
【主要指標】
（一）鉭粉W、Mo、Nb高熔點雜質含量：W、Mo、Nb雜質總和平均值小于0.35ppm
（二）鉭粉氧含量：鉭粉氧含量平均值小于600ppm
（三）高純鉭靶用超高純鉭粉純度：高純鉭粉純度達到99.998%（4N8）
【應用推廣需求】
（一）應用推廣方式：銷售
（二）應用推廣領域：金屬材料
【成果圖片】
【聯系人】
集團聯系人：陳勝川，18209520981，chenshengchuan@cnmc.com.cn
成果聯系人：張學林，15121968359，262272409@qq.com
【責(ze)任編輯：賈(jia)建慧】
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