文(wen)章來(lai)源：北京礦冶研究總院(yuan) 發(fa)布時間：2014-05-09
日前，由北京礦冶研究總院北礦新材科技有限公司為主承擔的由國家科技部組織的國際合作項目“極大規模集成電路刻蝕機用高純氧化釔涂層聯合研發”驗收會在北京舉行。該項目的成功實施，標志著極大規模集成電路芯片制造重大裝備關鍵零部件國產化技術取得了重大突破，芯片刻蝕機用高純氧化釔防護涂層技術研發獲得成功。
隨著極大規模集成電路“高密度等離子體刻蝕機”國產化步伐的加快，對刻蝕機用關鍵零部件的國產化研制需求也越來越緊迫。針對這一國家戰略性需求，北京礦冶研究總院北礦新材科技有限公司在分析研究等離子刻蝕產品工況要求的基礎上，根據國際領先防護技術發展趨勢，開展了刻蝕機內腔抗等離子沖蝕用防護涂層技術研究，突破了高純氧化釔熱噴涂粉末制備、高純氧化釔涂層制備關鍵技術，并聯合德國GTV熱噴涂工程技術設備有限公司研制開發了國內首套適合高純度、高均勻度、高致密度氧化釔陶瓷涂層噴涂專用三陽級高能等離子噴涂及配套系統。在國內首次獲得高純氧化釔熱噴涂粉末制備技術、高純氧化釔涂層制備工藝技術及相關產品。所研制的高純氧化釔粉末純度穩定達到99.9wt%以上，高純氧化釔涂層純度穩定達到99wt%以上，達到了國外同類產品的先進水平。涂層產品經國內知名刻蝕機生產企業北京北方微電子公司的考核驗證，涂層的等離子刻蝕速率降低10～60%，可完全替代國外產品。
采用此技術建成了國內首個針對高純度涂層材料及涂層加工的生產線高潔凈中試生產線，可滿足刻蝕機內腔200套/年的加工需求，其設計思路可推廣應用至整個熱噴涂行業。
通過(guo)本項目(mu)的(de)(de)(de)(de)(de)合(he)作(zuo)(zuo)研發，加(jia)強(qiang)了(le)(le)國(guo)(guo)(guo)內企(qi)(qi)業(ye)(ye)與(yu)(yu)國(guo)(guo)(guo)際(ji)知名(ming)熱(re)噴(pen)涂(tu)企(qi)(qi)業(ye)(ye)GTV、Aachen大學(xue)的(de)(de)(de)(de)(de)技(ji)術交(jiao)流與(yu)(yu)合(he)作(zuo)(zuo)，使我(wo)國(guo)(guo)(guo)進(jin)入(ru)了(le)(le)被(bei)美、日等壟(long)斷(duan)的(de)(de)(de)(de)(de)高純熱(re)噴(pen)涂(tu)材料及涂(tu)層制(zhi)備技(ji)術領(ling)域(yu)(yu)，促(cu)進(jin)我(wo)國(guo)(guo)(guo)熱(re)噴(pen)涂(tu)產(chan)品(pin)走向高端(duan)生產(chan)型并服(fu)務于國(guo)(guo)(guo)際(ji)市場，帶動(dong)熱(re)噴(pen)涂(tu)行業(ye)(ye)的(de)(de)(de)(de)(de)高新技(ji)術發展，有力地推動(dong)了(le)(le)相關領(ling)域(yu)(yu)的(de)(de)(de)(de)(de)技(ji)術進(jin)步(bu)。同(tong)時，本項目(mu)采用(yong)了(le)(le)我(wo)國(guo)(guo)(guo)研究(jiu)單(dan)(dan)位(wei)組織、應用(yong)單(dan)(dan)位(wei)參加(jia)與(yu)(yu)非壟(long)斷(duan)國(guo)(guo)(guo)先進(jin)企(qi)(qi)業(ye)(ye)合(he)作(zuo)(zuo)的(de)(de)(de)(de)(de)運作(zuo)(zuo)模式，為(wei)突破制(zhi)約我(wo)國(guo)(guo)(guo)先進(jin)裝(zhuang)備制(zhi)造(zao)的(de)(de)(de)(de)(de)瓶頸技(ji)術，打破國(guo)(guo)(guo)外的(de)(de)(de)(de)(de)技(ji)術壟(long)斷(duan)，提供(gong)了(le)(le)一條(tiao)新的(de)(de)(de)(de)(de)解決途(tu)徑，創造(zao)了(le)(le)有益的(de)(de)(de)(de)(de)合(he)作(zuo)(zuo)模式，積累了(le)(le)寶貴的(de)(de)(de)(de)(de)經驗。