文章來源：中國航天科技集團公司 發(fa)布時間(jian)：2017-07-20
近日，中(zhong)國(guo)航(hang)天科技(ji)集(ji)團(tuan)公司(si)所屬中(zhong)國(guo)樂(le)凱集(ji)團(tuan)有限公司(si)的“一(yi)種光(guang)學硬化膜及其制造方(fang)法”專利(li)(li)技(ji)術得(de)到日本專利(li)(li)局正式授權。這標志著(zhu)樂(le)凱硬化膜技(ji)術達國(guo)際(ji)先進水平，對增(zeng)強國(guo)產硬化膜的國(guo)際(ji)影響力、拓(tuo)展國(guo)際(ji)市(shi)場具有重要意義。
該專利技(ji)術主要針對(dui)硬(ying)(ying)化膜的易劃(hua)傷和耐(nai)酸(suan)堿性的問題，運用后可實(shi)現硬(ying)(ying)化膜的高(gao)硬(ying)(ying)度(du)以及耐(nai)酸(suan)堿腐蝕的效果(guo)。與以往技(ji)術相比，高(gao)硬(ying)(ying)度(du)及耐(nai)酸(suan)堿腐蝕優點(dian)明顯，能(neng)夠實(shi)現在硬(ying)(ying)化膜上刻蝕ITO電路。